特許

J-GLOBAL ID：200903098534098311

固体撮像装置及びその製造方法

発明者： 冨留宮 正之
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-314384
公開番号（公開出願番号）：特開2001-135806
出願日： 1999年11月04日
公開日（公表日）： 2001年05月18日
要約：

【要約】【課題】オンチップマイクロレンズの平坦化膜の膜厚を、触診針による膜厚計で測定することができるパターンを撮像領域と異なる部分に形成する。膜厚を測定する部分は撮像領域とは異なるので、撮像装置としては非破壊の検査で膜厚を測定可能である。【解決手段】オンチップマイクロレンズが形成されている撮像領域をもつ固体撮像装置において、撮像領域外に、撮像領域と同様のポリシリコン電極16や遮光膜17等からなる下地パターンと色層22を含む樹脂からなる平坦化膜20が形成される領域23と平坦化膜20がない領域24とを形成すれば、領域23の表面を基準とした領域24表面の高さを求めることにより、平坦化膜20の膜厚を正確に測定することが可能となる。

請求項（抜粋）：

光電変換部を含む素子が形成された基板と、前記基板表面を覆う絶縁膜と、前記光電変換部の上方を除く領域の前記絶縁膜中或いは上にあって前記絶縁膜を介して前記素子を駆動又は接続する導電性配線と、前記絶縁膜表面上から前記絶縁膜中の範囲の高さの内の所定の高さに設けられ、少なくとも前記光電変換部の上方に対応する領域に開口部を有する遮光膜と、前記導電性配線及び前記遮光膜を含む前記絶縁膜を覆う平坦化膜と、前記平坦化膜上にあって、前記光電変換部の上方に対応する領域に形成されたマイクロレンズとから成る固体撮像装置であって、前記素子が形成された領域以外の前記基板において、少なくとも前記絶縁膜、前記導電性配線、前記遮光膜及び前記平坦化膜が形成された領域を含むモニター領域を有することを特徴とする固体撮像装置。

IPC (5件)：

H01L 27/14 ,  H01L 31/0232 ,  H01L 31/10 ,  H04N 5/335 ,  H04N 9/07

FI (5件)：

H04N 5/335 U ,  H04N 9/07 D ,  H01L 27/14 D ,  H01L 31/02 D ,  H01L 31/10 Z

Fターム (51件)：

4M118AA09 ,  4M118AB01 ,  4M118BA13 ,  4M118CA04 ,  4M118DA03 ,  4M118FA06 ,  4M118FA26 ,  4M118FA35 ,  4M118GB03 ,  4M118GB07 ,  4M118GC07 ,  4M118GD07 ,  5C024AA01 ,  5C024BA01 ,  5C024CA11 ,  5C024CA12 ,  5C024CA31 ,  5C024DA01 ,  5C024DA04 ,  5C024DA07 ,  5C024EA04 ,  5C024EA08 ,  5C024FA01 ,  5C024FA11 ,  5C024FA18 ,  5C024FA19 ,  5C024GA01 ,  5C024GA16 ,  5C024GA22 ,  5C024GA26 ,  5C024GA51 ,  5C024GA52 ,  5C065AA03 ,  5C065BB42 ,  5C065CC01 ,  5C065CC07 ,  5C065CC08 ,  5C065CC09 ,  5C065DD07 ,  5C065DD17 ,  5C065EE10 ,  5C065EE20 ,  5F049MA01 ,  5F049NA08 ,  5F049NB05 ,  5F049RA08 ,  5F049SZ20 ,  5F049TA12 ,  5F088AA02 ,  5F088DA17 ,  5F088JA12

引用特許：

出願人引用 (3件)

• SOI基板の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-247069   出願人：信越半導体株式会社
• カラー固体撮像装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-336542   出願人：松下電子工業株式会社
• 特開昭63-119261