特許
J-GLOBAL ID：200903098644716711

オルチプラズの製造方法

発明者：
キム ジン-ワン

キム ジン-ワン について

, 
チョイ クワン-ドン

チョイ クワン-ドン について

, 
リム ジー-ウー

リム ジー-ウー について

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リー クワン-ヘグ

リー クワン-ヘグ について

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リー サン-ホー

リー サン-ホー について


出願人/特許権者：
シージェー コーポレーション

シージェー コーポレーション について


代理人 (2件)： 清水 初志 ,  新見 浩一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-555112
公開番号（公開出願番号）：特表2006-511508
出願日： 2003年11月25日
公開日（公表日）： 2006年04月06日
要約：
オルチプラズの製造方法を提供する。本方法は、メチル2-メチル-3-(ピラジン-2-イル)-3-オキソプロピオネートをトルエンとキシレンとの混合溶媒の存在下で五硫化リンと反応させ、続いて再結晶させる段階を含む。
請求項（抜粋）：
メチル2-メチル-3-(ピラジン-2-イル)-3-オキソプロピオネートをトルエンとキシレンとの混合溶媒の存在下で五硫化リンと還流反応させ、オルチプラズ粗結晶を生成し、続いて再結晶させる段階を含む、オルチプラズの製造方法。
IPC (4件)：
C07D 409/04 ,  A61P 31/18 ,  A61P 35/00 ,  A61P 31/20
FI (4件)：
C07D409/04 ,  A61P31/18 ,  A61P35/00 ,  A61P31/20
Fターム (15件)：
4C063AA01 ,  4C063BB01 ,  4C063CC97 ,  4C063DD34 ,  4C063EE01 ,  4C086AA04 ,  4C086BC48 ,  4C086GA04 ,  4C086GA07 ,  4C086NA14 ,  4C086ZB26 ,  4C086ZB33 ,  4C086ZC55 ,  4H039CA62 ,  4H039CD30
引用特許：
審査官引用 (5件)
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引用文献：
審査官引用 (8件)
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