特許
J-GLOBAL ID:200903098646060058

ウェハ移し替え装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴江 武彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-222146
公開番号(公開出願番号):特開平9-069552
出願日: 1995年08月30日
公開日(公表日): 1997年03月11日
要約:
【要約】【課題】半導体装置の製造工程において、ウェハ表面を傷つけることなくウェハの移し替えを行う小型のウェハ移し替え装置を提供する。【解決手段】ウェハカセット2に収納されたウェハ1は、プッシャ-3に押し上げられることによりカセットから取り出され、1対のチャック板4a、4bにより保持され他のウェハ保持装置へ移動する。プッシャ-3はウェハ1と接する面にウェハの傾倒を防止する溝を有せず、2つのチャック板4a、4bはそれぞれ対向面上にウェハ保持装置2の溝に平行で等しい溝間隔を有する溝10を具備し、溝10の下端はチャック板4a、4bの下端面22a ,22b に開口され、溝10の深さは下端面において最も浅く形成され、2つのチャック板4a、4bは対向面に垂直に移動し、対抗面間の距離を変化させるが、最も開いた状態においても対向面間の距離はウェハの直径よりも小さい。
請求項(抜粋):
対向する1対の側壁と底面とから構成され、前記側壁は対向する側面上に開口している鉛直線方向の平行な複数の第1の溝を具備し、前記底面は保持すべきウェハの直径より小さい幅の開口部を有し、前記対向する側壁の溝の底面間の間隔はウェハの直径よりも大きく選定され、ウェハを前記第1の溝に1枚づつ挿入することにより前記ウェハを鉛直線方向に直立した互いに分離した状態で保持可能に構成されたウェハ保持装置と、前記ウェハ保持装置の下方に設置され昇降機構を備えたプッシャ-と、前記ウェハ保持装置の上方に設置されウェハを保持して前記ウェハ保持装置から他のウェハ保持装置へ移動する機構を有するチャックとから構成されるウェハ移し替え装置において、前記プッシャ-は前記開口部より前記ウェハ保持装置内へ挿入され前記ウェハを下方から支えると同時に昇降させる機構を具備し、前記ウェハと接する面に前記ウェハ面に平行な溝を有せず、前記チャックは前記ウェハ保持装置の前記側壁面に平行な対向する2つのチャック板より構成され、この2つのチャック板はそれぞれ対向面に開口している鉛直線方向の第2の溝を有し、この第2の溝の下端は前記チャック板下端面に開口し、前記第2の溝の前記下端面における位置は前記第1の溝の前記側壁上端面における位置に対応し、その溝の前記下端面における溝の幅は前記第1の溝の前記側壁上端面における溝の幅より広く、その溝の深さは前記下端面において最も浅く形成され、前記チャックは前記チャック板を対向面に対して垂直に移動させて対向面間の距離を変化させる移動機構を備え、この移動機構は前記チャック板下端面を含む平面における前記対向面の前記第2の溝の底面間の間隔がウェハの直径よりも大きい第1の位置と前記間隔がウェハの直径よりも小さい第2の位置とにチャック板を設定可能に構成されていて、前記第1の位置においても前記対向面間の距離はウェハの直径よりも小さいことを特徴とするウェハ移し替え装置。
IPC (3件):
H01L 21/68 ,  B65G 49/07 ,  H01L 21/22 501
FI (3件):
H01L 21/68 D ,  B65G 49/07 C ,  H01L 21/22 501 J
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 特開昭63-058850
  • 特開平4-144250
  • ウェハ異常検知装置及びウェハ検査方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-009303   出願人:株式会社日立製作所, 日立那珂エレクトロニクス株式会社
全件表示

前のページに戻る