特許
J-GLOBAL ID：200903098781823460
基板処理装置および基板処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
吉田 茂明
, 吉竹 英俊
, 有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-261994
公開番号（公開出願番号）：特開2008-080230
出願日： 2006年09月27日
公開日（公表日）： 2008年04月10日
要約：
【課題】マイクロバブルまたはナノバブルを含む処理液を使用する基板処理装置および基板処理方法において、基板に対してマイクロバブルまたはナノバブルを効果的に作用させることができる技術を提供する。【解決手段】マイクロバブル洗浄処理部40は、圧送される洗浄液中に注入する窒素ガスの流量を調節することにより、洗浄液中に含まれるマイクロバブルのサイズを調節することができる。このため、除去対象となるパーティクルのサイズに応じて最適なサイズのマイクロバブルを多量に供給することができ、基板に対してマイクロバブルを効果的に作用させることができる。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
マイクロバブルまたはナノバブルを含む処理液により基板を処理する基板処理装置において、
処理液中にマイクロバブルまたはナノバブルを発生させるバブル発生手段と、
処理液中のマイクロバブルまたはナノバブルのサイズを調節するサイズ調節手段と、
マイクロバブルまたはナノバブルを含む処理液を基板に供給する処理液供給手段と
を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件)：
B08B 3/10
, H01L 21/027
, B08B 3/02
, H01L 21/304
B08B3/10 Z
, H01L21/30 572B
, B08B3/02 C
, H01L21/304 643B
, H01L21/304 643C
, H01L21/304 648G
3B201AA02
, 3B201AA03
, 3B201AB14
, 3B201BA02
, 3B201BB34
, 3B201BB38
, 3B201BB88
, 3B201BB90
, 3B201BB92
, 3B201BB93
, 3B201BB94
, 3B201BC01
, 3B201CB15
, 3B201CB25
, 3B201CC01
, 5F046MA01
, 5F046MA10
