特許
J-GLOBAL ID：200903098790865990
光学素子成形機
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 義雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-033494
公開番号（公開出願番号）：特開2004-244243
出願日： 2003年02月12日
公開日（公表日）： 2004年09月02日
要約：
【課題】ガラス光学素子成形機に於いて、不活性ガスの使用量が少なく、成形型の酸化現象が極めて少なく、その結果、高品質の光学素子を生産することができる光学素子成形機を提供することを課題とする。【解決手段】本発明の光学素子成形機は、高温下で成形型や硝材と化学反応を少なくとも起こしにくい不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、前記成形型及び硝材を加熱しつつ前記成形型を介して前記硝材に加圧力を供給する成形手段とを具えた成形室と、前記成形型及び硝材を成形機に供給する供給室とを少なくとも具えた光学素子成形機において、前記供給室と前記成形室は、相対的に前記成形室の圧力が大きくなるように設定されていることを特徴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
高温下で成形型や硝材と化学反応を少なくとも起こしにくい不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、前記成形型及び硝材を加熱しつつ前記成形型を介して前記硝材に加圧力を供給する成形手段とを具えた成形室と、前記成形型及び硝材を成形機に供給する供給室とを少なくとも具えた光学素子成形機において、
前記供給室と前記成形室は、相対的に前記成形室の圧力が大きくなるように設定されていることを特徴とする光学素子成形機。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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