特許

J-GLOBAL ID：200903098794175590

走査型露光装置

発明者： 西 健爾
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-122128
公開番号（公開出願番号）：特開平7-335516
出願日： 1994年06月03日
公開日（公表日）： 1995年12月22日
要約：

【要約】【目的】 投影光学系の結像性能の調整(又は計測)を走査露光方式に適した機構で行う。【構成】 スリット状の照明領域7内のレチクル6のパターン像を投影光学系14を介してウエハ17上の露光領域18内に投影し、照明領域7に対してレチクル6をB1方向に走査するのと同期して露光領域18に対してウエハ17をC1方向に走査して露光を行う。投影光学系14とレチクル6との間で、照明光が通過しない非照明領域27R,28Rにおいて、投影光学系14のレチクル側のレンズ15の表面に温度計測用のサーミスタ30A,30Bを被着し、計測結果に基づいて送風ユニット32A,32Bからレンズ15に気体を吹き付ける。

請求項（抜粋）：

転写用のパターンが形成されたマスク上の所定形状の照明領域を露光光で照明し、該所定形状の照明領域内の前記マスクのパターンを投影光学系を介して感光性の基板上に投影し、前記マスクを前記投影光学系に対して所定の方向に走査するのと同期して前記基板を前記投影光学系に対して所定の方向に走査することにより、前記マスク上のパターンを逐次前記基板上に露光する走査型露光装置において、前記投影光学系の前記マスク側のレンズと前記マスクとの間の空間、及び前記基板側のレンズと前記基板との間の空間の内で前記マスク上の前記所定形状の照明領域から前記投影光学系を介して前記基板に入射する露光光が通過しない領域に、前記投影光学系の結像性能を調整する結像性能調整手段を設けたことを特徴とする走査型露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 518 ,  H01L 21/30 516 E

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭61-100929
  
• 半導体露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-031337   出願人：キヤノン株式会社
• 露光方法及び露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-066453   出願人：ホーヤ株式会社