特許
J-GLOBAL ID：200903098870999920

弁装置及び液体噴射装置

発明者：
木村 仁俊

木村 仁俊 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (2件)： 恩田 博宣 ,  恩田 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-255173
公開番号（公開出願番号）：特開2004-092796
出願日： 2002年08月30日
公開日（公表日）： 2004年03月25日
要約：
【課題】弁装置について、流路内の流体に対する耐久性を高くするとともに、装置全体の大きさを小さくする。【解決手段】流路バルブ15は、流路ハウジング33、弁座34、弾性体35、可動側磁性体36及び磁性体駆動部37を備える。弁座34は、流路ハウジング33の流路形成部材39のインク室42内において、第1のインク流路45に接続されている第1の開口部43を囲むように突設されている。弾性体35と可動側磁性体36とは、弁座34側から順にインク室42内に収容されている。また、磁性体駆動部37は、固定側磁性体53とボビン54とコイル55とを備える。固定側磁性体53は、可動側磁性体36に対してフィルム材41を挟んで対峙している。流路ハウジング33と固定側磁性体53とは、ボビン54の内部に、弁座34、弁体48、可動側磁性体36、固定側磁性体53がコイル55の中心軸線と直交する方向に並ぶようにして内嵌されている。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
流体が移動する流路内に設けられている弁座と、 前記弁座に向かう正方向及び離間する負方向に移動することにより、前記流路を開閉する第1の磁性体と、 前記第1の磁性体の前記正方向あるいは前記負方向の延長上に位置する第2の磁性体と、 前記第1の磁性体の移動方向と直交する方向に中心軸線を有し、前記弁座と前記第1の磁性体と前記第2の磁性体とを囲むようにして設けられている励磁コイルと を備え、 前記励磁コイルに通電することにより前記第1の磁性体と前記第2の磁性体とをお互いに反発するように磁化させて、前記第1の磁性体を前記正方向あるいは前記負方向に移動させることを特徴とする弁装置。
IPC (2件)：
F16K31/06 ,  B41J2/175
FI (3件)：
F16K31/06 305J ,  F16K31/06 305E ,  B41J3/04 102Z
Fターム (18件)：
2C056EA23 ,  2C056KB08 ,  2C056KB14 ,  3H106DA07 ,  3H106DA23 ,  3H106DB02 ,  3H106DB12 ,  3H106DB22 ,  3H106DB32 ,  3H106DC02 ,  3H106DC17 ,  3H106DD03 ,  3H106DD05 ,  3H106EE34 ,  3H106GA13 ,  3H106GA15 ,  3H106KK01 ,  3H106KK31
引用特許：
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM