特許
J-GLOBAL ID:200903098881185666
均熱装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
宮田 金雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-021428
公開番号(公開出願番号):特開2000-218516
出願日: 1999年01月29日
公開日(公表日): 2000年08月08日
要約:
【要約】【課題】 平面状の熱源2を定盤1へ取り付ける際、全面にわたって定盤1と接触させることは困難であり、定盤1の表面の温度分布の均一性には限界があるため、厳しい温度分布精度を要求される被加工物3への適用は無理であり、又、定盤1の周辺部は中心部に比べて放熱が大きく、被加工物3が全面で均一に加熱されず、加工精度が低下する等の課題がある。【解決手段】 溝6が複数形成された第1の板状部材5とこの第1の板状部材5に形成された溝6を覆うように第1の板状部材5に接合される第2の板状部材7とにより構成され、上面に被加工物3が載置される定盤4と、第1の板状部材5と第2の板状部材7との間に形成され、内部に所定量の作動液9が充填される複数の流通路8と、被加工物3を定盤4を介して加熱または冷却する平面状の熱源10とを設けたものである。
請求項(抜粋):
溝が複数形成された第1の板状部材とこの第1の板状部材に形成された溝を覆うように上記第1の板状部材に接合される第2の板状部材とにより構成され、上面に被加工物が載置される定盤と、上記第1の板状部材と上記第2の板状部材との間に形成され、内部に所定量の作動液が充填される複数の流通路と、上記被加工物を上記定盤を介して加熱または冷却する平面状の熱源とを備えたことを特徴とする均熱装置。
IPC (3件):
B24B 37/00
, B24B 37/04
, H01L 21/304 622
FI (3件):
B24B 37/00 J
, B24B 37/04 A
, H01L 21/304 622 R
Fターム (8件):
3C058AA07
, 3C058AA09
, 3C058AB04
, 3C058AC04
, 3C058BA08
, 3C058CA01
, 3C058CB01
, 3C058DA17
引用特許:
出願人引用 (2件)
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ポリッシング用加工定盤
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-199483
出願人:東芝機械株式会社
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平面研磨用定盤
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-362666
出願人:スピードファム株式会社
審査官引用 (1件)
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