特許
J-GLOBAL ID：200903098887476042
弗化物中の酸素成分・炭素成分の低減方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-032740
公開番号（公開出願番号）：特開2002-241196
出願日： 2001年02月08日
公開日（公表日）： 2002年08月28日
要約：
【要約】【課題】 フォトリソグラフィ用露光装置などのステッパーレンズ材料である弗化カルシウムや弗化バリウムなどの高純度弗化物(高純度弗化物は、弗化カルシウムおよび弗化バリウムの限りではない)、また光ファイバーやコーティング材料などに使用されている弗化イッテルビウムや弗化セリウムなどの希土類弗化物に含まれる酸素・炭素成分を低減する方法を提供する事。【解決手段】 高純度弗化物中に含まれる酸素・炭素成分をフッ素ガス処理を施す事によって低減させることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
フッ素ガスを含むガスに弗化物を接触させるフッ素ガス処理を行うことを特徴とする弗化物中の酸素成分・炭素成分の低減方法。
IPC (4件)：
C30B 29/12
, C01B 9/08
, C30B 33/00
, G02B 1/00
C30B 29/12
, C01B 9/08
, C30B 33/00
, G02B 1/00
4G077AA02
, 4G077BE02
, 4G077EC01
, 4G077HA01
