特許
J-GLOBAL ID:200903098918390923
投影露光装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
平木 祐輔 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-172436
公開番号(公開出願番号):特開平10-022196
出願日: 1996年07月02日
公開日(公表日): 1998年01月23日
要約:
【要約】【課題】 照明光照射によってマスクが熱膨張することによる位置ずれを排除する。【解決手段】 マスク1に隣接して気体吸引手段22を設け、マスク近傍の気体を局所的に吸引してマスクの表面に気体流を形成する。この気体流の排熱作用(冷却作用)によって、マスク1は周囲の気体の温度程度に冷却され、恒温化される。気体吸引手段22によってマスク表面に気体流を発生させる方法を採用すると、マスク1を冷却して高温になった気体をそのまま吸引手段から装置外に排出することができるため、マスク冷却後の気体によって露光装置内の温度分布が変化したり、空気揺らぎが発生するといった不都合がない。
請求項(抜粋):
マスクを照明する照明光学系と、前記マスクを保持するマスクステージと、前記マスクに形成されたパターンを感光基板に投影する投影光学系とを含む投影露光装置において、前記マスクに隣接して気体吸引手段を設け、前記マスク近傍の気体を局所的に吸引して前記マスクの表面に気体流を形成することを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件):
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
FI (3件):
H01L 21/30 516 E
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 502 H
引用特許:
審査官引用 (13件)
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露光方法および装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-041583
出願人:サンエー技研株式会社
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マスク支持装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-085125
出願人:株式会社トプコン
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特開平1-251612
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露光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-257565
出願人:株式会社日立製作所, 日立東京エレクトロニクス株式会社
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X線露光装置およびそれを用いたX線露光方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-217272
出願人:日本電信電話株式会社
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特開平2-143515
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特開平2-132445
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特開昭62-122128
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露光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-108712
出願人:ソニー株式会社
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特開平1-251612
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特開平2-143515
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特開平2-132445
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特開昭62-122128
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