加熱炉

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：島村芳明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-170806
公開番号（公開出願番号）：特開2000-012476
出願日： 1998年06月18日
公開日（公表日）： 2000年01月14日
要約：

【要約】【課題】加熱炉の炉内のガス成分と温度の均一性の向上を図る。【解決手段】上部ベルジャ2aと下部ベルジャ2bを有する縦型円筒状の密閉容器2と、上部ベルジャ2aの上面および周面を覆うように設けられた上部ヒータ3と、下部ベルジャ2bの下面を覆うように設けられた下部ヒータ4と、下部ベルジャ2bに接続されたガス供給管5と、上部ベルジャ2aまたは下部ベルジャ2bに接続されたガス排出管6とを有してなる加熱炉であって、ガス供給管5は下部ベルジャ2b中心に接続されており、かつ、円形皿状のバッフルプレート7が下部ベルジャ2bの中心と中心が一致するとともに、下面と下部ベルジャ2bの上面との間にわずかの隙間8が生じるように下部ベルジャ2b上に載置されている。

請求項（抜粋）：

上部ベルジャと下部ベルジャを有する縦型円筒状の密閉容器と、上部ベルジャの上面および周面を覆うように設けられた上部ヒータと、下部ベルジャの下面を覆うように設けられた下部ヒータと、下部ベルジャに接続されたガス供給管と、上部ベルジャまたは下部ベルジャに接続されたガス排出管とを有してなる加熱炉であって、ガス供給管は下部ベルジャ中心に設けられたガス導入口に接続されており、かつ、円形皿状のバッフルプレートが下部ベルジャの中心と中心が一致するとともに、下面と下部ベルジャの上面との間にわずかの隙間が生じるように下部ベルジャ上に載置されていることを特徴とする加熱炉。

IPC (2件)：

H01L 21/22 511 , H01L 21/22

FI (2件)：

H01L 21/22 511 S , H01L 21/22 511 A

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開平4-234119
熱処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-167473 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン東北株式会社
特開平3-109724

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