特許
J-GLOBAL ID:200903099023918384
シート状あるいは円筒状の樹脂製印刷基材の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-071804
公開番号(公開出願番号):特開2006-248191
出願日: 2005年03月14日
公開日(公表日): 2006年09月21日
要約:
【課題】レーザー彫刻法を用いて表面に凹パターンを有する樹脂製印刷版を製造する方法において、低出力のレーザー光源を用いて微細なパターンを形成する方法の提供。【解決手段】樹脂製印刷原版は紫外線領域に光透過性を有する感光性樹脂硬化物からなり、かつ前記レーザー彫刻工程において用いられるレーザー光源が、1パルス当りの尖頭出力が1J以上20kJ以下であるパルス発振紫外線レーザーであって、前記パルス発振紫外線レーザーから出力されるレーザービームのビーム径を0.4μm以上15μm未満に集光し、幅が0.4μm以上20μm未満、深さが1μm以上100μm未満の微細な凹パターンを樹脂製印刷原版表面に形成することができることを特徴とするシート状あるいは円筒状の樹脂製印刷基材の製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
表面に凹凸パターンを有するシート状あるいは円筒状の樹脂製印刷基材の製造方法が、レーザー光を樹脂製印刷原版表面に照射してレーザー光が照射された部分の樹脂が除去されることにより凹パターンが形成されるレーザー彫刻工程を含み、前記樹脂製印刷原版の表面から少なくとも100μmの厚さの部分は、紫外線領域に光線透過性を有する感光性樹脂硬化物からなり、かつ前記レーザー彫刻工程において用いられるレーザー光源が、平均出力が0.01W以上5W未満、1パルス当たりのエネルギー量が10J以上50kJ以下であるパルス発振紫外線レーザーであって、前記パルス発振紫外線レーザーから出力されるレーザービームのビーム径を0.4μm以上15μm未満に集光し、幅が0.4μm以上20μm未満、深さが1μm以上100μm未満の微細な凹パターンを樹脂製印刷原版表面に形成することができ、更に、厚さを100μmに設定して別途光硬化させて作製した感光性樹脂硬化物の光線透過率が、レーザー彫刻工程で使用するパルス発振紫外線レーザーの発振波長において0.1%以上60%以下であることを特徴とするシート状あるいは円筒状の樹脂製印刷基材の製造方法。
IPC (4件):
B41C 1/05
, B23K 26/00
, B23K 26/06
, B41N 1/12
FI (4件):
B41C1/05
, B23K26/00 B
, B23K26/06 Z
, B41N1/12
Fターム (23件):
2H084AA05
, 2H084AA30
, 2H084AE05
, 2H084AE08
, 2H084BB04
, 2H084BB13
, 2H084BB16
, 2H084CC03
, 2H114AA02
, 2H114AA09
, 2H114AA23
, 2H114BA10
, 2H114DA59
, 2H114DA60
, 2H114DA61
, 2H114GA31
, 4E068AB00
, 4E068CA01
, 4E068CA02
, 4E068CA03
, 4E068CD10
, 4E068CD11
, 4E068CE02
引用特許:
出願人引用 (2件)
審査官引用 (8件)
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