特許
J-GLOBAL ID：200903099086534608
近接場光の発生方法、近接場露光用マスク、近接場露光方法、近接場露光装置、近接場光ヘッド、近接場光学顕微鏡、記録・再生装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-334610
公開番号（公開出願番号）：特開2005-101394
出願日： 2003年09月26日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：
【課題】高効率に近接場光を発生させることができ、また、より強度の高い近接場光を発生させることが可能となる近接場光の発生方法、近接場露光用マスク、近接場露光方法、近接場露光装置、近接場光ヘッド、近接場光学顕微鏡、記録・再生装置を提供する。【解決手段】光の波長以下のサイズの微小開口に光を照射して、該微小開口の光射出側の開口部近傍に微小な光スポットを形成する近接場光の発生方法、近接場露光方法、近接場露光装置等において、前記光スポットの形成に当たり、前記微小開口を縦横サイズが異なる矩形形状とし、該矩形形状の開口によって縦横サイズがほぼ同等の光スポットが形成可能な構成とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
光の波長以下のサイズの微小開口に光を照射して、該微小開口の光射出側の開口部近傍に微小な光スポットを形成する近接場光の発生方法であって、
前記光スポットの形成に当たり、前記微小開口を縦横サイズが異なる矩形形状とし、該矩形形状の開口によって縦横サイズがほぼ同等の光スポットを形成することを特徴とする近接場光の発生方法。
IPC (5件)：
H01L21/027
, G01N13/10
, G01N13/14
, G03F7/20
, G11B7/135
H01L21/30 502D
, G01N13/10 G
, G01N13/14 A
, G01N13/14 B
, G03F7/20 521
, G11B7/135 A
2H042AA14
, 2H042AA15
, 2H042AA25
, 5D789AA43
, 5D789CA06
, 5D789CA22
, 5D789JA66
, 5F046AA25
, 5F046BA01
, 5F046BA10
, 5F046DA23
, 5F046DA27
