特許

J-GLOBAL ID：200903099135308384

透明積層フィルムの製造方法及び透明積層フィルム及び反射防止フィルム

発明者： 坂倉 治
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-084996
公開番号（公開出願番号）：特開2003-276109
出願日： 2002年03月26日
公開日（公表日）： 2003年09月30日
要約：

【要約】【課題】 プラスティックフィルムからなる基材上に、酸化シリコン層をプラズマCVD法により形成する際に、酸化シリコン層の微粒子化を防止して、均一であり、安定した屈折率を有する酸化シリコン薄膜を形成できる透明積層フィルムの製造方法とそれにより得られる透明積層フィルムを提供する。【解決手段】 透明積層フィルム1は、プラスティックフィルムからなる基材2上に、透明な酸化物薄膜3をプラズマCVD法により形成する際に、プラズマCVD法における反応室に不活性ガスを導入し、原料ガスと混合されたガス全体の気体分子の平均自由行程(λ=kT/πpd2√2)が0.7cm以上5cm以下の条件にすれば、不活性ガスが原料ガスと酸素ガスとの反応における混合ガスの均一性を向上させ、結果として放電電圧を安定させ、酸化物薄膜の微粒子化を防止することができる。これにより、上記課題を解決できた。

請求項（抜粋）：

プラスティックフィルムからなる基材上に、透明な酸化物薄膜をプラズマCVD法により形成する透明積層フィルムの製造方法において、プラズマCVD法における反応室に不活性ガスを導入し、原料ガスと混合されたガス全体の気体分子の平均自由行程(λ=kT/πpd2√2)が0.7cm以上5cm以下の条件にて、酸化物薄膜を基材上に設けて、酸化物薄膜の屈折率を1.4〜1.55(波長λ=550nm)、表面粗さRaを3nm以上、30nm以下にすることを特徴とする透明積層フィルムの製造方法。

IPC (4件)：

B32B 9/00 ,  C23C 16/42 ,  G02B 1/10 ,  G02B 1/11

FI (4件)：

B32B 9/00 A ,  C23C 16/42 ,  G02B 1/10 A ,  G02B 1/10 Z

Fターム (52件)：

2K009AA04 ,  2K009AA05 ,  2K009AA06 ,  2K009AA07 ,  2K009AA15 ,  2K009BB24 ,  2K009CC03 ,  2K009CC26 ,  2K009CC42 ,  2K009CC47 ,  2K009DD04 ,  2K009DD09 ,  2K009EE05 ,  4F100AA17B ,  4F100AA17D ,  4F100AA20B ,  4F100AJ05A ,  4F100AK01A ,  4F100AK41A ,  4F100AK42 ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA05 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10B ,  4F100EH66B ,  4F100EJ38A ,  4F100GB41 ,  4F100JB14 ,  4F100JK14B ,  4F100JL06B ,  4F100JN01B ,  4F100JN18B ,  4F100JN18C ,  4F100JN18E ,  4F100JN30 ,  4F100YY00B ,  4K030BA01 ,  4K030BA10 ,  4K030BA11 ,  4K030BA17 ,  4K030BA20 ,  4K030BA21 ,  4K030BA22 ,  4K030BA40 ,  4K030BA42 ,  4K030BA44 ,  4K030BB12 ,  4K030CA07 ,  4K030CA12 ,  4K030FA03

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 薄膜作成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-268924   出願人：日電アネルバ株式会社, 日本電気株式会社
• プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-224041   出願人：株式会社日立製作所
• 反射防止部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-082516   出願人：凸版印刷株式会社