特許
J-GLOBAL ID:200903099190483896
CIPによる脱臭洗浄方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
古谷 聡
, 溝部 孝彦
, 持田 信二
, 義経 和昌
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-376760
公開番号(公開出願番号):特開2006-181450
出願日: 2004年12月27日
公開日(公表日): 2006年07月13日
要約:
【課題】 CIP洗浄において効率良く残存フレーバーを除去でき、洗浄後に溶剤臭が殆ど残存しない脱臭洗浄方法を提供する。【解決手段】 液体と気体との気液二相流を用いてCIPにより脱臭洗浄を行う。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
液体と気体との気液二相流を用いる、CIPによる脱臭洗浄方法。
IPC (3件):
B08B 9/02
, B08B 3/08
, C11D 3/43
FI (3件):
B08B9/02 Z
, B08B3/08 Z
, C11D3/43
Fターム (24件):
3B116AA13
, 3B116AA33
, 3B116AB52
, 3B116BB38
, 3B201AA13
, 3B201AA33
, 3B201AB52
, 3B201BB38
, 3B201BB94
, 3B201BB98
, 4H003AB22
, 4H003AC05
, 4H003AC08
, 4H003AC12
, 4H003AD04
, 4H003AE05
, 4H003DA12
, 4H003DA17
, 4H003DA20
, 4H003DC04
, 4H003ED03
, 4H003ED28
, 4H003ED32
, 4H003FA27
引用特許:
出願人引用 (5件)
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CIP洗浄用脱臭剤組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-236337
出願人:旭電化工業株式会社, 株式会社アデカクリーンエイド
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洗浄剤組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-221651
出願人:大三工業株式会社
-
ビール醸造設備用酸性洗浄剤
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-014539
出願人:大三工業株式会社
-
硬表面用酸性洗浄剤
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-302344
出願人:大三工業株式会社
-
管路内面の洗浄方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-264936
出願人:化研テック株式会社
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