特許
J-GLOBAL ID：200903099226030702
ウエハ保持装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-035004
公開番号（公開出願番号）：特開平9-232409
出願日： 1996年02月22日
公開日（公表日）： 1997年09月05日
要約：
【要約】【課題】プラズマを発生させたハロゲン系腐食性ガス下、特に塩素系ガス下におけるウエハ保持装置の腐食を低減し、ウエハへのパーティクルやコンタミネーションの発生を防止するとともに、長期使用可能なウエハ保持装置を提供する。【解決手段】半導体ウエハや液晶用ガラス基板などのウエハを保持する基体を窒化アルミニウム質焼結体により形成するとともに、上記基体の表面部を酸化処理したり、被着でもってハロゲン系腐食性ガスに対し優れた耐食性を有するアルミナ層を設けてウエハ保持装置を構成する。
請求項（抜粋）：
ハロゲン系腐食性ガス下で半導体ウエハや液晶用ガラス基板などのウエハを保持する基体を窒化アルミニウム質焼結体により構成するとともに、上記基体の表面部にアルミナ層を設けたことを特徴とするウエハ保持装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/68 N
, C04B 35/64 J
