有機被膜の除去方法および除去装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：岩見谷周志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-229394
公開番号（公開出願番号）：特開2003-330206
出願日： 2002年08月07日
公開日（公表日）： 2003年11月19日
要約：

【要約】【課題】高温でも安全で、循環再生使用ができる処理液を用いて、基体上の有機被膜、例えばレジスト膜を、短時間かつ効率的経済的に除去する手段を提供すること。【解決手段】(1)有機被膜を有する基体に、液状の炭酸エチレン、炭酸プロピレンまたは両者の液状混合物からなる処理液を、特にオゾンを溶解させた該処理液を接触させて、基体表面の有機被膜を除去する方法。(2) A. 前記処理液を処理区域に輸送する処理液導入手段と、B. 前記処理区域において有機被膜を有する基体の該被膜を有する表面に前記処理液を接触させる被膜接触手段と、C. 前記処理区域から排出された処理液を、1個以上の一時的貯蔵手段を経由して該処理区域に復帰させる液循環手段と、及びD. 前記処理区域内または前記一時的貯蔵手段内で、処理液にオゾン含有ガスを接触させるオゾン溶解手段とを有することを特徴とする基体表面の有機被膜の除去装置。

請求項（抜粋）：

表面に有機被膜を有する基体に、液状の炭酸エチレン、炭酸プロピレンまたは炭酸エチレンと炭酸プロピレンとの液状混合物からなる処理液を接触させて前記有機被膜を除去した後、該除去処理後の処理液中に移行した有機被膜構成物質をオゾンによって低分子量物質に分解することにより、該オゾン処理後の処理液を別の基体を処理するための処理液として再生し循環使用することをすることを特徴とする有機被膜の除去方法。

IPC (7件)：

G03F 7/42 , G02F 1/13 101 , G02F 1/1333 500 , H01L 21/027 , H01L 21/304 647 , H01L 21/306 , H01L 21/3065

FI (7件)：

G03F 7/42 , G02F 1/13 101 , G02F 1/1333 500 , H01L 21/304 647 A , H01L 21/30 572 B , H01L 21/302 104 H , H01L 21/306 R

Fターム (33件)：

2H088FA21 , 2H088FA30 , 2H088HA01 , 2H088MA16 , 2H088MA20 , 2H090JC19 , 2H090JC20 , 2H096AA25 , 2H096AA27 , 2H096LA02 , 2H096LA03 , 2H096LA18 , 5F004AA09 , 5F004DB26 , 5F004FA08 , 5F043AA37 , 5F043BB25 , 5F043CC16 , 5F043CC20 , 5F043DD07 , 5F043DD13 , 5F043DD23 , 5F043EE05 , 5F043EE07 , 5F043EE08 , 5F043EE12 , 5F043EE24 , 5F043EE25 , 5F043EE28 , 5F043EE33 , 5F046MA02 , 5F046MA03 , 5F046MA05

引用特許：

審査官引用 (6件)

弾球遊技機
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-351763 出願人：サミー工業株式会社
プロピレンカーボネートの回収方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-160619 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
レジスト剥離方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-322342 出願人：東レ株式会社

全件表示

前のページに戻る