特許

J-GLOBAL ID：200903099281232012

ペリクル剥離方法及びペリクル剥離装置

発明者： 田中 眞一郎 ,  和田 茂 ,  楠瀬 治彦
出願人/特許権者： 菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社 ,  三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 高田 守 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-293017
公開番号（公開出願番号）：特開平8-152709
出願日： 1994年11月28日
公開日（公表日）： 1996年06月11日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、フォトマスクを傷付けずにペリクルを容易に剥離させ、かつ人体への悪影響が生じるのを防止するとともに、粘着剤がフォトマスクに付着するのを防止することを目的とするものである。【構成】 ペリクル5のフォトマスク1への接着部を50°C〜100°Cの温水に浸漬し、接着部に設けられた粘着剤の粘着力を低下させた後、ペリクル5をフォトマスク1から引き剥がすようにした。

請求項（抜粋）：

ペリクルのフォトマスクへの接着部を50°C〜100°Cの温水に浸漬し、上記接着部に設けられた粘着剤の粘着力を低下させた後、上記ペリクルを上記フォトマスクから剥離させることを特徴とするペリクル剥離方法。

IPC (2件)：

G03F 1/14 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平3-119356
  
• ペリクル膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-352045   出願人：信越化学工業株式会社
• ペリクル剥離装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-352367   出願人：株式会社ニコン
• 特開平2-304439