特許
J-GLOBAL ID：200903099301434822

基板処理装置

発明者：
木▲崎▼ 幸治

木▲崎▼ 幸治 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 大坪 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-028488
公開番号（公開出願番号）：特開平9-199460
出願日： 1996年01月22日
公開日（公表日）： 1997年07月31日
要約：
【要約】【課題】 専用の処理室等を設けることなく基板に対する紫外線の照射処理を行えるようにすることにより、基板製造装置の占有面積と基板の搬送回数とを減少することのできる基板処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】 基板処理装置40は、ランプカバー43と石英板45からなり、その内部に誘電体バリア放電ランプ41を収納したランプボックス47と、ランプボックス47内に窒素ガスを供給する導入口49と、ランプボックス47の外側を囲う排気カバー55と、排気カバー55内の気体を外部に排出する排気口61とを備える。基板Wの裏面中央部は、排気カバー55の凸部57により支持される。
請求項（抜粋）：
紫外線を基板に照射して基板を処理する基板処理装置であって、基板を支持する基板支持手段と、前記基板支持手段に支持された基板に対し真空紫外線を照射する紫外線ランプと、ランプカバーと紫外線透過板とを有し、前記紫外線ランプを気密状態で収納するランプボックスと、前記ランプボックス内に、基板の処理に寄与する紫外線の吸収帯がない気体を供給する気体供給手段と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 341 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/68
FI (3件)：
H01L 21/304 341 D ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/302 B
引用特許：
出願人引用 (5件)
  • 特開昭61-067920
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-028487   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 表面処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-028210   出願人：株式会社日立製作所
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審査官引用 (9件)
  • 特開平4-206723
  • 特開平4-206723
  • 特開平1-206630
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