特許

J-GLOBAL ID：200903099345767683

試料作製評価装置

発明者： 内橋 隆 ,  中山 知信 ,  青野 正和
出願人/特許権者： 独立行政法人物質・材料研究機構 ,  独立行政法人科学技術振興機構
代理人 (1件)： 松本 悟
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-062344
公開番号（公開出願番号）：特開2009-218151
出願日： 2008年03月12日
公開日（公表日）： 2009年09月24日
要約：

【課題】ナノ構造の作製から評価に至るまでを外気に曝されることのないように行えるようにする。【解決手段】ナノ構造(52)を有する試料を作製し、その特性を評価する為の試料作製評価装置であって、基板(15)上にナノ構造(52)を作製するナノ構造形成手段と、ナノ構造(52)を中心とした対称位置にマーカーパターンを形成するマーカー形成手段(23)と、前記マーカーパターンを目印として、ナノ構造(52)を測定端子に接続するナノ構造接続手段(51,51)とが、真空チャンバー内の一繋がりとなった真空室に配置され、この真空室内において前記各手段に対し、基板(15)を順次脱着し、移送する基板移送手段とを有することを特徴とする試料作製評価装置である。【選択図】図24

請求項（抜粋）：

ナノ構造を有する試料を作製し、その特性を評価する為の試料作製評価装置であって、基板上にナノ構造を作製するナノ構造形成手段と、前記ナノ構造を中心とした対称位置にマーカーパターンを形成するマーカー形成手段と、前記マーカーパターンを目印として、前記ナノ構造を測定端子に接続するナノ構造接続手段とが、真空チャンバー内の一繋がりとなった真空室に配置され、この真空室内において前記各手段に対し、前記基板を順次脱着し、移送する基板移送手段とを有することを特徴とする試料作製評価装置。

IPC (2件)：

H01J 37/28 ,  G01N 1/28

FI (2件)：

H01J37/28 X ,  G01N1/28 H

Fターム (6件)：

2G052AA13 ,  2G052AD12 ,  2G052AD32 ,  2G052AD52 ,  2G052FD06 ,  2G052GA31