特許
J-GLOBAL ID:200903099489678537
光加工法及び光起電力装置の製造方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
松川 克明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-127038
公開番号(公開出願番号):特開平7-308788
出願日: 1994年05月16日
公開日(公表日): 1995年11月28日
要約:
【要約】【目的】 レーザ光によって被加工物を加工する際に、その加工部分に異常が生じることがなく、様々なパターンの加工が短時間で簡単に行えるようにし、また光起電力装置の製造時に欠陥が生じることもなく、高品位な光起電力装置を簡単に製造できるようにする。【構成】 レーザ光をマスク5に形成された所望パターンの透光部5aに導き、この透光部を通過した略均一なエネルギー分布を持つレーザ光を結像レンズ6により被加工物10上に結像投影させて、被加工物上に透光部のパターンに対応した加工を行うようにし、この方法によって光電変換素子20を加工し、特に、マスクに形成された1本以上の直線状パターンを有する透光部を通して、1以上の隣接する光電変換素子間に溝加工を行い、複数の光電変換素子が基板11の絶縁表面で電気的に直列接続された光起電力装置を製造するようにした。
請求項(抜粋):
レーザ光をマスクに導き、このマスクに形成された所望パターンの透光部を通過させて透光部のパターンに対応すると共に略均一なエネルギー分布を持つレーザ光を得、このレーザ光を結像レンズにより加工を行う被加工物上に結像投影させ、結像投影されたレーザ光により被加工物上に上記透光部のパターンに対応した加工を行うことを特徴とする光加工法。
IPC (4件):
B23K 26/00
, B23K 26/06
, H01L 31/04
, H01S 3/10
引用特許:
審査官引用 (7件)
-
特開昭63-084789
-
特開昭63-220991
-
特開平4-339585
-
特表平4-501829
-
被膜加工装置および被膜加工方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-112355
出願人:株式会社半導体エネルギー研究所
-
多軸ビームレーザ加工機
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-294828
出願人:松下電器産業株式会社
-
特開昭63-173322
全件表示
前のページに戻る