特許
J-GLOBAL ID：200903099506196894
ホトマスクをクリーニングする方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
矢野 敏雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-335345
公開番号（公開出願番号）：特開平8-254817
出願日： 1995年12月22日
公開日（公表日）： 1996年10月01日
要約：
【要約】【課題】 ホトマスクまたは半導体ウエーハのような目的物から顕微鏡的粒子汚染物を除去する装置およびそれと関連する方法を提供する。【解決手段】 該装置は標的目的物上の任意粒子汚染物の位置を確認するための検査装置を利用する。ひとたび種々の粒子汚染物の位置が確認されると、プローブは1つの粒子汚染物の位置に急送される。プローブが標的目的物から粒子汚染物を除去し、クリーニング区画室に移動し、この中で粒子汚染物がプローブから除去される。次いで、プローブは、標的目的物からすべての汚染物が除去されるまで、次ぎの粒子汚染物に移動される。標的目的物から粒子汚染物を1つずつ除去することにより、ゼロ欠陥製品の製造収率は著しく増加する。
請求項（抜粋）：
ホトマスクから粒子汚染物を除去する方法において、a)ホトマスク上の粒子汚染物の位置を決定する工程;b)プローブを粒子汚染物の位置に駆動する工程;c)粒子汚染物をプローブに引きつける工程;およびd)プローブを取り去り、これにより粒子汚染物を除去する工程を包含する、ホトマスクから粒子汚染物を除去する方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 X
, H01L 21/30 503 G
