特許
J-GLOBAL ID：200903099731182630
液晶表示素子用フォトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中尾 俊輔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-099635
公開番号（公開出願番号）：特開2001-281683
出願日： 2000年03月31日
公開日（公表日）： 2001年10月10日
要約：
【要約】【課題】 段差部がある場合であっても、感光性レジストの露光を確実に行なうことができ、適正な電極間寸法を有する透明電極を形成すること。【解決手段】 透明基板2に透明導電膜7の下地層として形成された透明絶縁膜4の周縁部等に形成される段差部10に対応する位置に切欠き部11を形成したことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
液晶表示素子の透明基板上の下地層の上に形成された透明導電膜をフォトリソグラフィ法によりパターニングして透明電極を形成する際に用いられ、前記透明導電膜上に塗布された感光性レジストを所望のパターンに露光させるための液晶表示素子用フォトマスクにおいて、前記下地層の段差部に対応する部分の形状を、所望のパターンに切欠き部または突出部が形成された形状としたことを特徴とする液晶表示素子用フォトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02F 1/1343
, G03F 1/08 A
2H092HA27
, 2H092LA06
, 2H092MA05
, 2H092MA14
, 2H092MA15
, 2H092MA17
, 2H092NA25
, 2H092PA03
, 2H092PA08
, 2H092PA12
, 2H095BA12
, 2H095BB02
, 2H095BB36
