放射線感受性酸発生剤を含むレジスト組成物

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：合田潔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-285425
公開番号（公開出願番号）：特開平9-179302
出願日： 1996年10月28日
公開日（公表日）： 1997年07月11日
要約：

【要約】【課題】本発明は、半導体装置製造に適した、改良された化学増幅レジスト組成物を提供する。【解決手段】本発明の放射線感受性レジスト組成物は、(i)スルホン酸ヨードニウム放射線感受性酸発生剤と、(ii)重合体と、(iii)酸活性化合物とを含む。

請求項（抜粋）：

(i)スルホン酸ヨードニウム放射線感受性酸発生剤と、(ii)重合体と、(iii)酸開裂性置換基を有する酸活性化合物とを含む放射線感受性レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 , H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (6件)

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