特許

J-GLOBAL ID：200903099828736851

ヒドロキシスチレン誘導体及びアセトキシスチレン誘導体の製造方法

発明者： 細田 朝夫 ,  森 一 ,  三宅 靖仁 ,  谷口 久次 ,  築野 卓夫
出願人/特許権者： 和歌山県 ,  築野食品工業株式会社
代理人 (1件)： 杉本 勝徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-223576
公開番号（公開出願番号）：特開2009-057294
出願日： 2007年08月30日
公開日（公表日）： 2009年03月19日
要約：

【課題】金属触媒や生体触媒などの特別な触媒、あるいは特殊な反応設備を用いることなく簡便に、且つ高収率でヒドロキシスチレン誘導体、及び、アセトキシスチレン誘導体を製造する方法の提供。【解決手段】一般式(I)(式(I)中、置換基R1、R2、R3およびR4は、水素、ヒドロキシル基及びメトキシ基のいずれかである)で示されるヒドロキシ桂皮酸誘導体を、有機塩基の存在下、疎水性溶媒中で加熱する工程を備えていることを特徴としている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

下記の一般式(I)

IPC (5件)：

C07C 37/50 ,  C07C 39/19 ,  C07C 67/08 ,  C07C 69/017 ,  C07C 69/157

FI (5件)：

C07C37/50 ,  C07C39/19 ,  C07C67/08 ,  C07C69/017 A ,  C07C69/157

Fターム (12件)：

4H006AA02 ,  4H006AC26 ,  4H006AC48 ,  4H006BB11 ,  4H006BC10 ,  4H006BJ50 ,  4H006FC52 ,  4H006FE13 ,  4H006KA06 ,  4H006KC10 ,  4H039CA21 ,  4H039CG40

引用特許：

出願人引用 (4件)

• スチレン誘導体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-300493   出願人：本州化学工業株式会社, 大阪市
• 4-アセトキシスチレンの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-245046   出願人：ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト
• アセトキシスチレン類の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-357554   出願人：本州化学工業株式会社
• スチレン誘導体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-018369   出願人：和歌山県

審査官引用 (2件)

• スチレン誘導体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-018369   出願人：和歌山県
• フェノール材料からポリマーを調製する方法およびこれに関連する組成物
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2009-522779   出願人：デュポンエレクトロニックポリマーズリミテッドパートナーシップ