特許

J-GLOBAL ID：200903099852380626

ダブルエマルション・マイクロカプセル生成装置

発明者： 樋口 俊郎 ,  鳥居 徹 ,  西迫 貴志
出願人/特許権者： 独立行政法人科学技術振興機構
代理人 (1件)： 清水 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-262654
公開番号（公開出願番号）：特開2007-044692
出願日： 2006年09月27日
公開日（公表日）： 2007年02月22日
要約：

【課題】種々の態様のダブルエマルション・マイクロカプセルを簡便にしかも容易に作製することができるダブルエマルション・マイクロカプセル生成装置を提供する。【解決手段】ダブルエマルション・マイクロカプセル生成装置において、第1分散相(205)と分流した二方から供給される第1連続相(201)とが交差する四路交差部(208)と、この四路交差部(208)の下流である第2分散相と第2連続相とが交差する三路交差部(214)とが形成されるマイクロチャネルからなるダブルエマルション・マイクロカプセル生成チップを具備する。【選択図】 図7

請求項（抜粋）：

第1分散相と分流した二方から供給される第1連続相とが交差する四路交差部と、該四路交差部の下流である第2分散相と第2連続相とが交差する三路交差部とが形成されるマイクロチャネルからなるダブルエマルション・マイクロカプセル生成チップを具備することを特徴とするダブルエマルション・マイクロカプセル生成装置。

IPC (3件)：

B01F 3/08 ,  B01J 13/00 ,  B01J 13/04

FI (3件)：

B01F3/08 A ,  B01J13/00 A ,  B01J13/02 A

Fターム (11件)：

4G005AA01 ,  4G005CA01 ,  4G035AB40 ,  4G065AA01 ,  4G065AB01X ,  4G065AB32X ,  4G065AB33X ,  4G065BB01 ,  4G065CA05 ,  4G065CA06 ,  4G065FA01

引用特許：

出願人引用 (1件)

• エマルションならびにマイクロカプセルの製造方法およびその装置
  公報種別：再公表公報   出願番号：JP2002001186   出願人：科学技術振興事業団

審査官引用 (2件)

• 超小型化学操作装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-001031   出願人：オリンパス光学工業株式会社
• 集積マイクロセラミック化学プラント
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-094957   出願人：イーストマンコダックカンパニー