ビス(ヒドロキシシクロヘキシル)アルカン及びその誘導体のポリオキシアルキレン化合物、並びに当該化合物を含有するメッキ浴

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：豊永博隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-047908
公開番号（公開出願番号）：特開平9-216845
出願日： 1996年02月08日
公開日（公表日）： 1997年08月19日
要約：

【要約】【課題】新規のポリオキシエチレン化合物を合成し、その含有によりメッキ浴の低起泡性並びに消泡性を実現して、高い作業性を獲得する。【解決手段】下記の(I)式の化合物を一例とする新規のシクロヘキサノール系ポリオキシアルキレン化合物を合成し、当該化合物をメッキ浴に含有して電気メッキ又は無電解メッキを施す。【化1】これにより、メッキ浴に優れた低起泡性並びに消泡性を付与でき、メッキの作業性が良好に向上する。

請求項（抜粋）：

次の一般式(I)【化1】(式(I)中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10はC1〜5アルキル、水素である;A1、A2はC1〜4アルキレンである;m1、m2は1〜50の整数である;n1、n2は1〜5の整数である;X、YはC1〜5アルキル、C2〜5アルケニル、ハロゲン、ベンジル、水素である。)で表されるビス(ヒドロキシシクロヘキシル)アルカン及びその誘導体のポリオキシアルキレン化合物。

IPC (10件)：

C07C 43/184 , C07C 43/188 , C07C 43/192 , C07C 43/196 , C25D 3/02 , C25D 3/22 , C25D 3/26 , C25D 3/32 , C25D 3/38 101 , C25D 3/56

FI (11件)：

C07C 43/184 , C07C 43/188 , C07C 43/192 , C07C 43/196 , C25D 3/02 , C25D 3/22 , C25D 3/26 , C25D 3/32 , C25D 3/38 101 , C25D 3/56 Z , C25D 3/56 C

引用特許：

審査官引用 (14件)

人造大理石調浴槽
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-210198 出願人：日立化成工業株式会社
写真用支持体の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-334937 出願人：富士写真フイルム株式会社
特開平4-170415

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