文献

J-GLOBAL ID：201002202865288454   整理番号：10A0462763

干渉露光法を用いた金ナノ構造体の酸化チタン基板上への大面積加工と光電変換特性

著者 (7件)： 荒木剛 (北大 電子科研) ,  西島喜明 (北大 電子科研) ,  村澤尚樹 (北大 電子科研) ,  上野貢生 (北大 電子科研) ,  上野貢生 (JST-さきがけ) ,  西井準治 (北大 電子科研) ,  三澤弘明 (北大 電子科研)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Spring Meeting, Japan Society of Applied Physics and the Related Societies)
巻： 57th  ページ： ROMBUNNO.18A-P4-9  発行年： 2010年03月03日 
JST資料番号： Y0054B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ナノ構造 ,  酸化チタン ,  光電効果 ,  金 ,  *レーザ照射 ,  *表面プラズモン ,  有限差分時間領域法 ,  基板 ,  光電変換 ,  ナノピラー
準シソーラス用語： 酸化チタン基板

分類 (1件)： 光伝導,光起電力  (BM03050J)

タイトルに関連する用語 (7件)： 干渉露光法 ,  金 ,  ナノ構造体 ,  酸化チタン ,  大面積 ,  光電 ,  変換特性