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J-GLOBAL ID：201002209196537260   整理番号：10A0858059

矩形アパーチャマスクによる微細負荷効果を用いた三次元シリコン製作

Three-dimensional silicon fabrication using microloading effects with a rectangular aperture mask

著者 (4件)： TAKAHATA Tomoyuki (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  IWASE Eiji (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  MATSUMOTO Kiyoshi (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  SHIMOYAMA Isao (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
資料名： Journal of Micromechanics and Microengineering  (Journal of Micromechanics and Microengineering)
巻： 20  号： 7  ページ： 075022,1-9  発行年： 2010年07月 
JST資料番号： W1424A  ISSN： 0960-1317  CODEN： JMMIEZ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 遠赤外線レンズは,任意三次元シリコン構造とする必要がある。従来手法では円形および矩形アパーチャが用いられている。これらの最終形態として垂直壁が必要な場合,第二段階異方性エッチング時間を短縮せざるを得ず,表面が粗くなるなどの不具合があった。本論文では,xおよびy方向高さの変化と垂直壁構造,平滑表面を用いた三次元形状構造の製作につき報告した。本手法では,矩形アパーチャの整列を行い,2段階異方性および等方性エッチングを実現するマスクを用いた。処理深さに与える矩形アパーチャ領域およびアスペクト比の効果を調査し,これら矩形アパーチャの整列に関する手法を記述した。特に,矩形カラム幅決定のため詳細の調査を行った。壁で囲んだプロトタイプマイクロレンズを製作し,その構造形状を測定した。その結果は,本構造が課題になっていたシリコン構造の三条件をすべて満足することを示した。

シソーラス用語： シャドウマスク ,  長方形 ,  構造効果 ,  三次元 ,  ケイ素 ,  エッチング ,  等方性 ,  アスペクト比 ,  *マイクロレンズ ,  *負荷調整
準シソーラス用語： *アパーチャマスク ,  シリコン ,  異方性エッチング ,  *矩形 ,  三次元構造

分類 (2件)： 光学器械要素とその材料  (QF05020K) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 矩形 ,  アパーチャマスク ,  シリコン ,  製作