文献

J-GLOBAL ID：201002215303738974   整理番号：10A0850082

MeRITを活用したリペア歩留り強化によるマスク歩留りの向上

Increasing Mask Yield Through Repair Yield Enhancement Utilizing the McRiT

著者 (4件)： GARETTO Anthony (Carl Zeiss SMT Inc., MA) ,  OSTER Jens (Carl Zeiss SMS, NaWoTec GmbH, Rossdorf, DEU) ,  WAIBLINGER Markus (Carl Zeiss SMS GmbH, Jena, DEU) ,  EDINGER Klaus (Carl Zeiss SMS, NaWoTec GmbH, Rossdorf, DEU)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 7545  ページ： 75450H.1-75450H.9  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Carl Zeiss社製のMeRIT MG45電子ビーム・マスクリペアツールを活用してリペア歩留り(Repair Yield)を強化する手法について提案した。パターンサイズが小さくなるのに伴い,RET(解像度強化技術)やOPC(光学近接補正)などはコストと時間がかかるようになった。リペア性能の向上によるリペア歩留りの強化は,全体的なマスク歩留りの改善とサイクルタイムの低減につながる。MeRIT MG45は,様々なリペアを光学的性能劣化を伴うことなく,ひとつの設備で遂行する能力があり,今までリペアできなかったマスクの欠陥を補正できるようになった。本稿では,リペア困難な欠陥の組合せやPSM(位相シフトマスク)の後退領域のリペアプロセスを提示し,これらの手法を使用してリペアした欠陥の実例を示した。

シソーラス用語： 電子ビーム加工 ,  *フォトマスク ,  フォトリソグラフィー ,  *歩留り ,  回路パターン形成
準シソーラス用語： EUVリソグラフィー ,  最小加工寸法 ,  *歩留り向上

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 活用 ,  リペア ,  歩留り ,  強化 ,  マスク