文献

J-GLOBAL ID：201002215744704528   整理番号：10A0465826

グラフェン・オン・シリコン構造の断面TEM観察

著者 (10件)： 半田浩之 (東北大 電通研) ,  宮本優 (東北大 電通研) ,  高橋良太 (東北大 電通研) ,  阿部峻佑 (東北大 電通研) ,  今泉京 (東北大 電通研) ,  齋藤英司 (東北大 電通研) ,  伊藤俊 (東北大 金属材料研) ,  吹留博一 (東北大 電通研) ,  末光眞希 (東北大 電通研) ,  末光眞希 (JST-CREST)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Spring Meeting, Japan Society of Applied Physics and the Related Societies)
巻： 57th  ページ： ROMBUNNO.18P-TE-14  発行年： 2010年03月03日 
JST資料番号： Y0054B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *グラファイト ,  透過型電子顕微鏡 ,  断面 ,  *炭化ケイ素 ,  熱処理 ,  Ramanスペクトル ,  *グラフェン ,  *シリコンウエハ
準シソーラス用語： *シリコン基板

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (2件)： 断面TEM ,  観察