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J-GLOBAL ID：201002220492716084   整理番号：10A1146951

中性子集光用大面積非球面ミラー作製プロセスの開発

著者 (7件)： 永野幹典 (大阪大 大学院工学研究科 超精密科学研究セ) ,  山家史也 (大阪大 大学院工学研究科 超精密科学研究セ) ,  是津信行 (大阪大 大学院工学研究科 超精密科学研究セ) ,  山村和也 (大阪大 大学院工学研究科 超精密科学研究セ) ,  丸山龍治 (日本原子力研究開発機構 J-PARCセ) ,  山崎大 (日本原子力研究開発機構 J-PARCセ) ,  曽山和彦 (日本原子力研究開発機構 J-PARCセ)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
巻： 2010  号： 秋季(CD-ROM)  ページ： ROMBUNNO.K37  発行年： 2010年09月10日 
JST資料番号： Y0914A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 現在我々は,日本原子力研究開発機構と協力し,非球面スーパーミラーデバイスの開発に取り組んでいる。大きな発散角を持った中性子ビームを効率よく集光するためには,ミラー基板の大面積化が必要不可欠である。我々は精密研削,数値制御ローカルウエットエッチング,ローカル低圧研磨を組み合わせた高能率かつ高精度でダメージフリーな非球面ミラー基板作製プロセスを提案,開発した。本稿では,本プロセスの概要と長さ400mm,幅50mmの合成石英ミラー基板の試作とその集光特性評価について述べる。(著者抄録)

シソーラス用語： *集光 ,  *非球面鏡 ,  *中性子ビーム ,  エッチング ,  精密研削 ,  数値制御 ,  研磨 ,  石英 ,  反射鏡 ,  基板 ,  イオンビームスパッタリング ,  ウェットエッチング
準シソーラス用語： スーパーミラー

分類 (1件)： その他の粒子光学  (BD02080I)

タイトルに関連する用語 (8件)： 中性子 ,  集光 ,  大面積 ,  非球面 ,  ミラー ,  作製 ,  プロセス ,  開発