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J-GLOBAL ID：201002221287153618   整理番号：10A0404028

II型シリコンクラスレートの合成における副生成物の生成に対する合成プロセスの影響

著者 (12件)： 鈴木敬俊 ,  上野紘幸 ,  馬場達也 ,  纐纈隆造 ,  大橋史隆 ,  伴隆幸 ,  大矢豊 ,  久米徹二 ,  夏原大宗 ,  野々村修一 ,  飯田民夫 ,  羽淵仁恵
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 90th  号： 2  ページ： 505  発行年： 2010年03月12日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： シリコンクラスレートは,Siからなるかご状構造化合物である。いくつかの構造が知られているが,II型クラスレートは,NaSi化合物の真空加熱により,かご中にNaを含む形で合成され,さらなる真空加熱でNaが除去され,Si組成のクラスレートとなる。しかし,合成過程でI型構造やダイヤモンド型Siも生成してしまう。本研究では副生成物の生成に対する合成プロセスの影響を調べ,純粋なII型クラスレートの合成を目的とする。(著者抄録)

シソーラス用語： *ケイ素 ,  *包接化合物 ,  *副産物 ,  *熱処理 ,  化学合成 ,  生産プロセス ,  超分子構造 ,  クラスタ分子 ,  ダイヤモンド型結晶 ,  真空 ,  X線回折 ,  温度依存性 ,  時間依存性 ,  化学組成 ,  結晶構造 ,  かご構造 ,  ダイヤモンド型構造
準シソーラス用語： クラスレート化合物 ,  *副生成物

分類 (1件)： 分子化合物  (CE02000C)

タイトルに関連する用語 (3件)： シリコンクラスレート ,  副生成物 ,  プロセス