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J-GLOBAL ID：201002227801261423   整理番号：10A0176377

エアロゾル析出法における膜の成長速度への前処理による影響

Effects of Pretreatments on deposition rate of Films in Aerosol Deposition Method

著者 (5件)： MIHARA Kensuke (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  HOSHINA Takuya (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  KAKEMOTO Hirofumi (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  TAKEDA Hiroaki (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  TSURUMI Takaaki (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
資料名： Key Engineering Materials  (Key Engineering Materials)
巻： 421/422  ページ： 165-168  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0744C  ISSN： 1013-9826  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： エアロゾル析出法(ADM)による成膜速度への前処理による影響を調べた。ADMではサブミクロン粒子を数百m/sに加速し,基板に衝突させて緻密な膜を作製する粒子の破壊と塑性変形による衝撃固化であるため,原料粉末の前処理が重要である。BaTiO₃粉末を180μmで分級し,200°Cで乾燥し,400~800°Cで熱処理した。ADMによる膜厚から分級と乾燥により膜厚は増加し,4.7μmとなった。熱処理温度が高くなると膜厚は400°Cの4.5μmから800°Cでは0.2μmへ減少した。遊星ボールミルで粉砕すると膜厚は更に増加して22.3μmとなった。

シソーラス用語： *析出 ,  *チタン酸バリウム ,  *誘電体薄膜 ,  基板 ,  ガラス ,  *薄膜成長 ,  *成長速度 ,  *前処理 ,  *熱処理 ,  粉砕 ,  ボールミル
準シソーラス用語： *エアロゾル析出法 ,  ガラス基板 ,  メカニカルミリング

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (2件)： エアロゾル析出法 ,  成長速度