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J-GLOBAL ID：201002229497778786   整理番号：10A0660584

パルスレーザー堆積法によりSnO₂ 系材料を用いて作製した積層型透明導電膜

Transparent Conducting Films with Multi-layered Structure Prepared by Pulsed Laser Deposition of SnO₂ Materials

著者 (5件)： 安居利将 (大阪産業大学工学部電子情報通信工学科) ,  青木孝憲 (大阪産業大学工学部電子情報通信工学科) ,  松下辰彦 (大阪産業大学工学部電子情報通信工学科) ,  鈴木晶雄 (大阪産業大学工学部電子情報通信工学科) ,  奥田昌宏 (奥田技術事務所)
資料名： Journal of the Vacuum Society of Japan  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
巻： 53  号： 5  ページ： 361-363 (J-STAGE)  発行年： 2010年 
JST資料番号： G0194A  ISSN： 1882-2398  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 積層型透明導電膜を用いることにより,薄膜太陽電池で光電変換できる波長400~1500nmにおける透過率の向上,およびAZO透明導電膜の問題である耐熱・耐湿性の改善を行った。まず,AZO膜の上層にフッ素添加・酸化錫(FTO)膜を保護層として堆積させた積層型透明導電膜を作製した。次に,FTO/AZO積層型透導電膜を基盤温度の最適化実験により特性改善を行い,その後,環境負荷試験(耐熱度・耐湿度)における種々特性の影響を評価した。基板温度をFTO成膜時に480°C,AZO成膜時に280°C,合計膜厚500nm(FTO/AZO:100nm/400nm)とした時,抵抗率3.35×10-4Ω・cm,シート抵抗6.7Ω/□の良好な値が得られた。FTO膜の基板温度の上昇に伴い,薄膜太陽電池で光電変換できる波長範囲を考慮した場合の波長400~1500nmにおいて平均透過率が向上する傾向が見られた。

シソーラス用語： パルスレーザ ,  *レーザ蒸着 ,  *酸化スズ ,  *透明導電膜 ,  *積層構造 ,  *電気抵抗率 ,  シート抵抗 ,  膜厚 ,  光透過 ,  太陽電池
準シソーラス用語： 薄膜太陽電池

分類 (2件)： その他の無機化合物の電気伝導  (BM03044O) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

引用文献 (10件)：

• 1) F. O. Adurodija, H. Izumi, T. Ishihara, H. Yoshioka, H. Matui and M. Motoyama: Jpn. J. Appl. Phys., 38 (1999) 2710.
• 2) T. Minami: Oyo Buturi, 75 (2006) 1218.
• 3) A. Suzuki, T. Matsushita, T. Aoki, Y. Yoneyama and M. Okuda: Jpn. J. Appl. Phys., 38 (1999) L71.
• 4) A. Suzuki, A. Mori, A. Sakamoto, T. Aoki, T. Matsushita and M. Okuda: Shinku, 45 (2002) 243.
• 5) T. Minami: MRS BULLETIN, 25 (2000) 38.

タイトルに関連する用語 (4件)： パルスレーザー堆積法 ,  系 ,  作製 ,  透明導電膜