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J-GLOBAL ID：201002232879287562   整理番号：10A1068112

パルスレーザー照射によるシリコン表面ナノ複合構造の作製

著者 (7件)： 吉田裕 (北大 工) ,  谷津茂男 (北大) ,  渡辺精一 (北大) ,  西島喜明 (北大 電子科研) ,  上野貢生 (北大 電子科研) ,  三澤弘明 (北大 電子科研) ,  加藤隆彦 (日立 材料研)
資料名： 日本金属学会講演概要  (Collected Abstracts of the Meeting of the Japan Institute Metals)
巻： 147th  ページ： 65  発行年： 2010年09月25日 
JST資料番号： S0988A  ISSN： 1342-5730  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ケイ素 ,  *レーザ照射 ,  表面構造 ,  自己組織化 ,  ナノ構造 ,  構造

分類 (1件)： レーザ照射・損傷  (BK16040S)

タイトルに関連する用語 (4件)： パルスレーザー照射 ,  シリコン ,  ナノ複合 ,  作製