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J-GLOBAL ID：201002240166641725   整理番号：10A1376625

CVD膜蒸着シミュレータの計算プロセスの自動モデリングシステム

An Automatic Modeling System of the Calculation Process of a CVD Film Deposition Simulator

著者 (5件)： TAKAHASHI Takahiro (Dep. of Electrical and Electronic Engineering, Fac. of Engineering, Shizuoka Univ.) ,  FUKUI Noriyuki (Dep. of Electrical and Electronic Engineering, Fac. of Engineering, Shizuoka Univ.) ,  ARAKAWA Masamoto (Dep. of Chemical System Engineering, School of Engineering, The Univ. of Tokyo) ,  FUNATSU Kimito (Dep. of Chemical System Engineering, School of Engineering, The Univ. of Tokyo) ,  EMA Yoshinori (Dep. of Electrical and Electronic Engineering, Fac. of Engineering, Shizuoka Univ.)
資料名： Journal of Chemical Engineering of Japan  (Journal of Chemical Engineering of Japan)
巻： 43  号： 11  ページ： 977-982 (J-STAGE)  発行年： 2010年 
JST資料番号： S0629A  ISSN： 0021-9592  CODEN： JCEJAQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 化学蒸着(CVD)に関するプロセスシミュレータの計算プロセスのモデリングシステムを開発した。このシステムは,ソフトウェアエージェントと,一般化されたモデリングソフトウェアおよび堆積された膜の断面を再現するシミュレータからなる。エージェントはシミュレータおよびモデリングソフトを運転して自発的に適切なモデルを創造する。モデルは,人工的神経回路網(ANN)を用いて,部分最小二乗回帰法(PLS),方形PLS(QPLS)および誤差後方伝播(BP)法で計算され,シミュレータによって計算された結果を再現するための数学的表式で表された。このモデルはシミュレータにより計算された薄膜の一様性およびフィリング性について,良い再現性および推算能を示した。BP法を用いたモデルは最善の性能を示した。充填特性データは膜の一様性よりもモデリングに適切であった。シミュレータはモデルで置き換えることができたから,モデルは実験値を推算する計算費の低減に寄与できる。よって,この研究は,ANNや他の数学モデルによる困難がないと期待される実験結果を生じる仮想の反応器としての,ロバストで,信頼できる推算器を提案した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *化学蒸着 ,  *シミュレータ ,  *モデリング ,  *自動化 ,  再現性 ,  開発 ,  数学モデル ,  ニューラルネットワーク

分類 (1件)： 気相めっき  (WC08022K)

引用文献 (12件)：

• AKIYAMA, Y. Reaction Analysis for ZrO_2 and Y_2O_3 Thin Film Growth by Low-Pressure Metalorganic Chemical Vapor Deposition Using β-Diketonate Complexes. J. Cryst. Growth. 1995, 147, 130-146
• BIGUS, J. P. Constructing Intelligent Agents Using Java. 2001
• CHAKRABORTI, A. K. Comparative Molecular Field Analysis (CoMFA) of Phthalazine Derivatives as Phosphodiesterase IV Inhibitors. Bioorg. Med. Chem. Lett. 2003, 13, 2473-2479
• IMAISHI, N. Micro/Macro Modeling of CVD Synthesis. J. Cryst. Growth. 1997, 180, 680-690
• KOMIYAMA, H. Chemical Reaction Engineering in the Design of CVD Reactors. Chem. Eng. Sci. 1999, 54, 1941-1957

タイトルに関連する用語 (6件)： CVD ,  蒸着 ,  シミュレータ ,  計算 ,  プロセス ,  モデリング