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J-GLOBAL ID：201002242485931518   整理番号：10A0529199

水熱合成法によるKNbO₃エピタキシャル膜の作製と特性評価

著者 (8件)： 石河睦生 (東京工大 大学院総合理工学研究科) ,  矢澤慶祐 (東京工大 大学院総合理工学研究科) ,  藤澤隆志 (東京工大 大学院総合理工学研究科) ,  安井伸太郎 (東京工大 大学院総合理工学研究科) ,  長谷川智仁 (東京工大 大学院総合理工学研究科) ,  黒澤実 (東京工大 大学院総合理工学研究科) ,  舟窪浩 (東京工大 大学院総合理工学研究科) ,  森田剛 (東大 大学院新領域創成科学研究科)
資料名： 超音波Techno  (超音波テクノ)
巻： 22  号： 3  ページ： 87-91  発行年： 2010年06月01日 
JST資料番号： L2344A  ISSN： 0916-2410  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： セラミックスと同等の圧電特性を示す厚さ10μm以上のKNbO₃エピタキシャル膜を水熱合成法により作製したのでその概要を紹介した。具体的には,水熱合成法による結晶膜の製膜,水熱合成法によるKNbO₃結晶成膜面の観察,その電気特性と圧電特性の評価について概説した。水熱合成法による結晶の製膜は,低温製膜が可能であるために各種基板類への製膜応用が期待でき,加工性もよいために自由な形状に仕上げられる。

シソーラス用語： *ニオブ酸カリウム ,  圧電素子 ,  電気特性 ,  エピタキシャル膜
準シソーラス用語： *圧電デバイス ,  圧電フィルム ,  圧電特性 ,  *水熱合成法 ,  電気機械結合係数

分類 (1件)： 圧電デバイス  (NC03110I)

タイトルに関連する用語 (4件)： 水熱合成法 ,  エピタキシャル膜 ,  作製 ,  特性評価