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J-GLOBAL ID：201002244856844985   整理番号：10A1082479

酸素プラズマエッチング耐性に優れたかご形シルセスキオキサンを有するブロック共重合体の合成と薄膜における精密ナノ構造制御

著者 (9件)： 早川晃鏡 (東京工大 大学院) ,  石田良仁 (東京工大 大学院) ,  平井智康 (東京工大 大学院) ,  後関頼太 (東京工大 大学院) ,  柿本雅明 (東京工大 大学院) ,  吉田博史 (日立 材料研) ,  多田靖彦 (日立 材料研) ,  竹中幹人 (京大 大学院) ,  長谷川博一 (京大 大学院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 59  号： 2 Disk1  ページ： ROMBUNNO.1O14  発行年： 2010年09月01日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ブロック共重合体 ,  *高分子薄膜 ,  ナノ構造 ,  ポリメタクリル酸メチル ,  有機ケイ素化合物 ,  プラズマエッチング ,  耐久性 ,  エピタクシー
準シソーラス用語： 構造制御 ,  シルセスキオキサン ,  グラフォエピタクシー

分類 (2件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： 酸素プラズマ ,  エッチング耐性 ,  かご ,  シルセスキオキサン ,  ブロック共重合体 ,  薄膜 ,  ナノ構造制御