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J-GLOBAL ID：201002247084924014   整理番号：10A0624733

ピクセル曝露リソグラフィーを用いた任意3D構造の作製に関する研究

Study on Fabrication of Arbitrary 3-D Structures Utilizing Pixels Exposed Lithography

著者 (3件)： HORADE M. (Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN) ,  HORADE M. (Japan Soc. Promotion of Sci.) ,  SUGIYAMA S. (Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN)
資料名： Memoirs of the SR Center, Ritsumeikan University  (Memoirs of the SR Center, Ritsumeikan University)
号： 12  ページ： 101-110  発行年： 2010年05月 
JST資料番号： L4610A  ISSN： 1345-1650  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： SR光を用いた3次元微小構造製造方法の開発研究を行った。これまでに,SRリソグラフィーを用いた幾つかの3次元プロセス法に関する報告がなされているが,これらは全てレジスト表面へのエネルギー分布を曝露する手法を含んでいる。任意の3次元構造を作製するにはレジスト表面に対する複雑なエネルギー分布を印可する必要がある。今回,パターン生成機能を持つマスクによって対称でない,もしくは非対称の任意3次元微細構造を作製可能な新規手法を提案した。本手法の利点は高速プロトタイピングに適し,従来不可欠であった光リソグラフィー用マスクが不要なため,作製時間とコストの低減が可能になる。単一開口を生成する重畳するピクセル配列を通して曝露することによって自由形状表面を首尾よく作製し,本作製方法の有効性を実証するための各種実験を実施した。ピクセルサイズは隣接ピクセルを重畳させることによって,ピクセルサイズを開口サイズより小さくすることが可能である。

シソーラス用語： *シンクロトロン放射 ,  *三次元 ,  *リソグラフィー ,  開口 ,  原価低減 ,  *パターン形成
準シソーラス用語： ピクセル曝露リソグラフィー

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： ピクセル ,  曝露 ,  リソグラフィー ,  3D ,  作製 ,  研究