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J-GLOBAL ID:201002253683606721   整理番号:10A0776988

電気化学的手法によるInP多孔質構造の形成と高感度化学センサへの応用

Electrochemical Formation of InP Porous Structures and Their Application to High-Sensitive Chemical Sensors
著者 (4件):
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巻: 110  号: 80(ED2010 33-47)  ページ: 11-15  発行年: 2010年06月10日 
JST資料番号: S0532B  ISSN: 0913-5685  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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ゲート検出部に多孔質構造を持つ新しいISFET(多孔質ゲート型ISFET)を提案し,試作した素子の基本特性を評価した。p+-InP基板上に結晶成長したn-InP層をチャネル層とし,電気化学的手法を用いてチャネル層内に多孔質構造を形成する手法を確立した。作製した多孔質ゲート型ISFETは,孔壁の表面電位の変化をソース-ドレイン電流で検出可能であり,基板裏面に形成したバックゲートに印加する電圧で感度を調整可能であることを明らかにした。さらに,pH応答特性を評価した結果,提案する多孔質ゲート型ISFETはプレーナ型素子と比べて電流変化率が大きく,化学物質の高感度検出に有望であることを示した。(著者抄録)
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