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J-GLOBAL ID：201002254084923537   整理番号：10A0464374

自己組織化を用いた超撥水・無反射シリコン微細構造体の作製

著者 (9件)： 平井悠司 (東北大 工) ,  藪浩 (東北大 多元物質科研) ,  松尾保孝 (北大 電子科研) ,  松尾保孝 (JST-CREST) ,  居城邦治 (北大 電子科研) ,  居城邦治 (JST-CREST) ,  下村政嗣 (東北大 多元物質科研) ,  下村政嗣 (JST-CREST) ,  下村政嗣 (東北大 WPI原子分子材料機構)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Spring Meeting, Japan Society of Applied Physics and the Related Societies)
巻： 57th  ページ： ROMBUNNO.18P-ZE-9  発行年： 2010年03月03日 
JST資料番号： Y0054B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *自己組織化 ,  *ケイ素 ,  微細構造 ,  *ハニカム構造 ,  多孔質体 ,  ポリスチレン ,  ポリアクリルアミド ,  共重合体 ,  高分子薄膜 ,  ウエハ【IC】 ,  マスク ,  *ドライエッチング ,  *パターン形成 ,  親水性 ,  疎水性 ,  光吸収スペクトル ,  *表面構造 ,  超親水性 ,  超疎水性 ,  *超撥水 ,  シリコンウエハ ,  *構造
準シソーラス用語： *超撥水性 ,  Si基板

分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  半導体の表面構造  (BK15030A) ,  固-液界面  (CB12050B)

タイトルに関連する用語 (5件)： 自己組織化 ,  撥水 ,  シリコン ,  微細構造体 ,  作製