文献

J-GLOBAL ID：201002260963995894   整理番号：10A0565084

ペリクルの深紫外劣化の光学的研究

Optical Investigation of Deep Ultraviolet Degradation of Pellicles

著者 (4件)： CHEON Hyuknyeong (Hanyang Univ., Ansan, KOR) ,  CHOI Hyungseok (Samsung Electronics Co., Hwasung, KOR) ,  OH Hye-Keun (Hanyang Univ., Ansan, KOR) ,  AN Ilsin (Hanyang Univ., Ansan, KOR)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 49  号： 5,Issue 1  ページ： 056701.1-056701.4  発行年： 2010年05月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光リソグラフィーはさらなる高分解能を目指して深紫外領域に達しており,高エネルギーフォトンによりフォトマスク(PM)に関係する諸問題が誘起されている。深UV照射の繰り返しにより,周辺汚染物質の光反応によるPM表面上の不要結晶もしくは層の形成が生じる。さらに,高透過性と輻射耐性を持つはずのPMを構成するペリクル自体が深UVと反応する恐れがある。今回使用したペリクルは193nmのArFエキシマレーザの広範囲照射後に最初厚みが減少し,続いて吸収が増大する。両方の現象は薄膜の透過性低下の原因になる。特に,厚み減少による透過性減少は干渉効果と関係している。リソグラフィーのシミュレーションから,ペリクルの透過性減少が臨界次元の変化に導くことがわかった。さらに,照射領域のエッジ近傍における厚みの不均一な減少から,アポジゼーション効果がパターンエッジ近傍で生じる可能性があることが示唆された。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 紫外線 ,  フォトリソグラフィー ,  フッ素樹脂 ,  *フォトマスク ,  *保護膜 ,  エキシマレーザ ,  レーザ照射 ,  *紫外線照射 ,  透過率 ,  偏光解析法 ,  *光劣化
準シソーラス用語： ArFエキシマレーザ ,  パーフルオロポリマー ,  深紫外線

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  レーザ照射・損傷  (BK16040S)

引用文献 (16件)：

• B. J. Grenon, C. Peters, K. Battacharyya, and W. Volk: Proc. SPIE 3873(1999)162.
• K. Bhattacharyya, M. Eickhoff, B. J. Grenon, M. Ma, and S. Pas: Proc. SPIE 5752(2005)1257.
• Y. Kim, S. Kim, H. Cho, I. An, and H. Oh: Jpn. J. Appl. Phys.45(2006)5388.
• S. Kim, J. Cho, J. Park, S. Kim, J. Kyoung, S. Park, I. An, and H. Oh: J. Korean Phys. Soc.49(2006)518.
• C. Reita: C. R. Phys.7(2006)896.

タイトルに関連する用語 (4件)： ペリクル ,  深紫外 ,  光学 ,  研究