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J-GLOBAL ID：201002266087908537   整理番号：10A0626868

イオンビームスパッタリングによる作製した薄い炭素ストリッパー箔の寿命の測定

Measurement of lifetimes of thin carbon stripper foils produced by ion-beam sputtering

著者 (8件)： TAKEDA Yasuhiro (High Energy Accelerator Res. Organization (KEK), Oho 1-1, Tsukuba, Ibaraki 305-0801, JPN) ,  IRIE Yoshiro (High Energy Accelerator Res. Organization (KEK), Oho 1-1, Tsukuba, Ibaraki 305-0801, JPN) ,  SUGAI Isao (High Energy Accelerator Res. Organization (KEK), Oho 1-1, Tsukuba, Ibaraki 305-0801, JPN) ,  TAKAGI Akira (High Energy Accelerator Res. Organization (KEK), Oho 1-1, Tsukuba, Ibaraki 305-0801, JPN) ,  OYAIZU Michihiro (High Energy Accelerator Res. Organization (KEK), Oho 1-1, Tsukuba, Ibaraki 305-0801, JPN) ,  KAWAKAMI Hirokane (High Energy Accelerator Res. Organization (KEK), Oho 1-1, Tsukuba, Ibaraki 305-0801, JPN) ,  HATTORI Toshiyuki (Tokyo Inst. of Technol., Ookayama 2-12, Meguro-ku, Tokyo 152-8550, JPN) ,  KAWASAKI Katsunori (Tokyo Inst. of Technol., Ookayama 2-12, Meguro-ku, Tokyo 152-8550, JPN)
資料名： Vacuum  (Vacuum)
巻： 84  号： 12  ページ： 1448-1451  発行年： 2010年06月25日 
JST資料番号： E0347A  ISSN： 0042-207X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高強度陽子加速器および重イオン加速器で使用される薄い炭素ストリッパー箔は長い寿命をもたなくてはならない。反応性および不活性気体のイオンを用いたイオンビームスパッタリングにより薄い炭素箔を作製した。KEKの650keV高強度DC H^-(負水素イオン)ビームを用いて箔の寿命を測定した。すなわち,照射中の箔の厚さの変化そして表面変形を調べた。重イオンビーム(ArおよびKr)スパッタリングにより作製した典型的なストリッパー箔の寿命は最良の市販されている箔のそれよりも60~70倍長かった。本論文は,炭素ストリッパー箔の寿命そしてビーム照射中の箔の厚さの変化の研究とともに,炭素ストリッパー箔のための作製方法を報告した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： イオンビームスパッタリング ,  *スパッタ蒸着 ,  *炭素 ,  *箔 ,  膜厚 ,  *寿命 ,  *加速器 ,  反応性スパッタリング
準シソーラス用語： 陽子加速器

分類 (1件)： 加速器一般及び理論  (BE02010M)

タイトルに関連する用語 (6件)： イオンビームスパッタリング ,  作製 ,  炭素 ,  ストリッパー ,  箔 ,  寿命