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J-GLOBAL ID：201002273623277525   整理番号：10A0325949

表面修飾に向けた電子ビーム蒸発装置による新しい金属イオン発生源

A New Metal-Ion Source with An Electron-Beam Evaporator for Surface Modification

著者 (4件)： NUNOGAKI Masanobu (The Inst. of Scientific and Industrial Res., Osaka Univ., JPN) ,  EMURA Shuichi (The Inst. of Scientific and Industrial Res., Osaka Univ., JPN) ,  SHIGEMOTO Akihiko (Industrial Technol. Center of Wakayama Prefecture, JPN) ,  SUGIMOTO Satoshi (Graduate School of Engineering, Osaka Univ., JPN)
資料名： e-Journal of Surface Science and Nanotechnology (Web)  (e-Journal of Surface Science and Nanotechnology (Web))
巻： 8  ページ： 131-135 (J-STAGE)  発行年： 2010年 
JST資料番号： U0016A  ISSN： 1348-0391  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 固体材料蒸発用にEB(電子ビーム)銃を備えた金属イオン発生源を設計し,プロトタイプイオン発生源を構成した。着火ガスを何ら供給することなく,チタン,亜鉛,マンガンの金属蒸気を用いたPIG(Penning)放電により,プロトタイプは効果的にイオン源プラズマを生成した。準備結果として,抽出電圧6eV下,Ti⁺,Zn⁺,Mn⁺から成る抽出全電流を,各不飽和電流約50,115,155μA dcとして測定した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *イオン源 ,  プロトタイプ ,  金属材料 ,  チタン ,  亜鉛 ,  マンガン ,  *蒸発装置 ,  *電子銃 ,  プラズマ ,  イオン電流 ,  *表面改質 ,  プラズマCVD
準シソーラス用語： *PIG型イオン源 ,  イオン飽和電流 ,  プラズマ化学蒸着 ,  *電子ビーム銃 ,  *表面修飾 ,  放電プラズマ

分類 (3件)： 電子ビーム・イオンビームの応用  (BD02070X) ,  プラズマ生成・加熱  (BJ02060E) ,  金属薄膜  (BK14030T)

引用文献 (12件)：

• [1] J. Lindhard et al., Phys. Rev. 124, 128 (1961).
• [2] S. T. Pixraux and W. J. Choyke (Ed.), Metastable Materials Formation by Ion Implantation (North-Holland, New York, 1982).
• [3] M. Iwaki, S. Sato, K. Takahashi, and H. Sakairi, Nucl. Instrum. Methods 209/210, 11129 (1983).
• [4] A. H. Deutchman, R. J. Partyka, and C. Lewis, Ind. Heat, 57(1), 32 (1990).
• [5] M. S. P. Madapura, J. R. Conrad, R. A. Dood, and F. J. Worzala, in Ion Nitriding and Ion Carburizing, Eds. T. Spalvins and W. L. Kovacs (AMS International, Ohaio, 1990), p. 37.

タイトルに関連する用語 (3件)： 表面修飾 ,  電子ビーム蒸発 ,  イオン発生源