照射したSiO<sub>2</sub>ゾルゲル薄膜中のAgナノ粒子に関する空間的に制御した溶解

MASSERA J.; MARTIN A.; CHOI J.; ANDERSON T.; PETIT L.; RICHARDSON M.; OBENG Y.; RICHARDSON K.

文献

J-GLOBAL ID：201002277550119069 整理番号：10A1094984

照射したSiO₂ゾルゲル薄膜中のAgナノ粒子に関する空間的に制御した溶解

Spatially controlled dissolution of Ag nanoparticles in irradiated SiO₂ sol-gel film

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巻： 71 号： 12 ページ： 1634-1638 発行年： 2010年12月
JST資料番号： C0202A ISSN： 0022-3697 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

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本論文で,著者らは,照射したSiO₂ゾルゲル薄膜中のAgナノ粒子について,空間的に制御した溶解を報告した。銀ナノ粒子はゾル-ゲル溶液中において,薄膜堆積前に,トリトンとアスコルビン酸との添加によって,また薄膜堆積後に,還元雰囲気中での700°Cで数分間または550°Cで6hの熱処理によって形成した。著者らは,分光計,白色光干渉計および微量熱量計を用いて,これら銀ナノ粒子は,連続ブラックレイUVランプまたは近赤外(NIR)フェムト秒レーザを用いて,局所温度の有意な上昇により溶解できることを示した。著者らは,薄膜表面に位置する金属ナノ粒子の溶解の研究のツールとして,微量熱量計を利用できることを確認した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

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