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J-GLOBAL ID：201002280773496256   整理番号：10A0896692

極微細加工用高分子薄膜のイオン化ダイナミクス

著者 (8件)： 岡本一将 (北大 大学院) ,  岡本一将 (理研) ,  田島康晴 (北大 大学院) ,  田島康晴 (理研) ,  古澤孝弘 (大阪大 産科研) ,  古澤孝弘 (理研) ,  初井宇記 (理研) ,  住吉孝 (北大 大学院)
資料名： 第4回XFEL利用ワークショップ 平成22年
ページ： 10  発行年： 2010年 
JST資料番号： N20101754  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *イオン化 ,  *微細加工 ,  *高分子薄膜 ,  半導体プロセス ,  極端紫外線 ,  フォトリソグラフィー ,  光源 ,  時間分解分光法
準シソーラス用語： *極微細加工

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 微細加工 ,  高分子薄膜 ,  イオン化 ,  ダイナミクス