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J-GLOBAL ID：201002283350335298   整理番号：10A0021759

Nafion膜に取り込まれたCu含有亜硝酸レダクターゼの活性サイトの合成類似体による亜硝酸塩から酸化窒素への電極触媒還元

Electrocatalytic Nitrite Reduction to Nitrogen Oxide by a Synthetic Analogue of the Active Site of Cu-Containing Nitrite Reductase Incorporated in Nafion Film

著者 (7件)： MIGITA Yusaku (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  YOKOYAMA Hiroshi (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  MINAMI Akiko (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  MORI Takanori (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  NOJIRI Masaki (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  SUZUKI Shinnichiro (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  YAMAGUCHI Kazuya (Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名： Electroanalysis  (Electroanalysis)
巻： 21  号： 22  ページ： 2441-2446  発行年： 2009年11月 
JST資料番号： T0736A  ISSN： 1040-0397  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ガラス状炭素電極上のNafionマトリックスに固定化したCu含有亜硝酸レダクターゼの活性サイトの合成類似体,[CuMe₂bpa(H₂O)(ClO₄]⁺(Me₂pba=ビス(6-メチル-2-ピリジルメチル)アミン)により触媒される亜硝酸塩の電気化学還元について,電子吸収スペクトル,EPRスペクトル,サイクリックボルタンメトリーにより調べた。その結果Nafion膜中に取り込んだCu錯体により,亜硝酸塩がNOに電極触媒還元されることがわかった。負に帯電したNafion膜中でのCu錯体の構造および酸化還元的性質,触媒反応機構は水溶液中と同じであることがわかった。またCu錯体はNafionマトリックス内での電子移動媒体としても作用した。サイクリックボルタンメトリー電流は亜硝酸塩濃度およびNO生成に比例することから,この電極を利用して亜硝酸塩の検出およびNO生成の制御が可能と考えられる。

シソーラス用語： 亜硝酸レダクターゼ ,  活性部位 ,  フッ素樹脂 ,  陽イオン交換樹脂 ,  電極触媒 ,  *カソード還元 ,  *銅錯体 ,  電子吸収スペクトル ,  ESR【磁気共鳴】 ,  *サイクリックボルタンメトリー ,  *一酸化窒素 ,  定量分析 ,  酵素モデル ,  *亜硝酸塩
準シソーラス用語： Nafion

分類 (1件)： 無機化合物の電気分析  (CC05024D)

物質索引 (1件)： ビス(6-メチル-2-ピリジニルメチル)アミン

タイトルに関連する用語 (9件)： Nafion ,  Cu ,  亜硝酸レダクターゼ ,  活性サイト ,  類似体 ,  亜硝酸塩 ,  酸化窒素 ,  電極触媒 ,  還元