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J-GLOBAL ID：201002285002264479   整理番号：10A0731492

高速パターニングプロセスのエクスカーション制御ためのフルウエハマクロCDイメージング

Full wafer macro-CD imaging for excursion control of fast patterning processes

著者 (4件)： MARKWORT Lars (Nanda Tech GmbH, Unterschleissheim, DEU) ,  KAPPEL Christoph (Nanda Tech GmbH, Unterschleissheim, DEU) ,  KHARRAZIAN Reza (Nanda Tech GmbH, Unterschleissheim, DEU) ,  GUITTET Pierre-Yves (Nanda Tech GmbH, Unterschleissheim, DEU)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 7638  号： Pt.1  ページ： 763807.1-763807.9  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光や電子ビームの像形成によるCDやOLの測定はスキャトロメータに置き代わられているが,1時間で3000ポイントのデータ収集でも速度が不十分になっている。さらに,今日のCDやOLのデータ収集はチップ間のスクライブラインに置かれたターゲットを使っているので実パターンとは異なる。新検査技術CDイメージング(CD-I)はコンタクトホールやラインスペースパターンの高速なCD均一性抽出を300mmウエハ全体にわたって可能にする。300mmウエハをコリメートした均一ビームで垂直に照明し,反射光を照明光学系で集光してから二次元アレー検出器に投影する。ロジックとメモリからの情報を分離するためにマスキングフィルタを使用している。検査時間はウエハ当たり数秒なので全表面の100%モニターが可能である。

シソーラス用語： 変動 ,  半導体プロセス ,  監視 ,  均一性 ,  長さ ,  *リソグラフィー ,  長さ測定 ,  *エクスカーション ,  *パターン形成
準シソーラス用語： CD均一性 ,  クリティカルディメンジョン ,  プロセス変動 ,  モニタリング

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： パターニング ,  プロセス ,  エクスカーション ,  Cd ,  イメージング