文献

J-GLOBAL ID：201002286797538675   整理番号：10A1027101

第二高調波発生によりプローブされる金ナノスフェア上の自己集合単分子層の形成過程

Formation Process of Self-Assembled Monolayer on Gold Nanosphere Probed by Second Harmonic Generation

著者 (4件)： YAMAGUCHI Tatsuya (Tokyo Inst. of Technol., Yokohama, JPN) ,  OKAWA Haruki (Kogakuin Univ., Tokyo, JPN) ,  HASHIMOTO Kazuhiko (Kogakuin Univ., Tokyo, JPN) ,  KAJIKAWA Kotaro (Tokyo Inst. of Technol., Yokohama, JPN)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 26  号： 18  ページ： 14543-14547  発行年： 2010年09月21日 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ヘミシアニン末端アルカンチオールの50nmの金ナノスフェア上への自己集合単分子層(SAM)の形成過程を研究した。ガラス基板上に固定された金ナノスフェアへのSAMの形成過程を,第二高調波発生(SHG)測定を用いて調べた。ヘミシアニン末端アルカンジスルフィド/エタノール溶液への浸漬時間に対する,SAMのキャップ角(θcap)の変動を観察した。その結果,ヘミシアニンSAMはナノスフェア全体に均一には形成されず,初期段階では頂上角140°付近までの半球上部領域に形成されることが分かった。また長時間の暴露によってもナノスフェア表面を完全には覆われることはなかった。これはナノスフェア下部の狭い空間のためと考えられる。しかし分子配向自体は平面金基板上への配向と変わるところはなかった。モンテカルロシミュレーションからは,ヘミシアニン末端アルカンジスルフィドの表面への結合はナノ球下部の狭い空間においては拡散律速反応であることが示された。これらの結果は,金属ナノ構造を利用する局所表面プラズモンバイオセンシングとナノ構造表面における化学状態の研究に有用と考えられる。また更にナノスフェア表面上のSAMからの第二高調波強度に対して,表面感受率テンソルの関数とする分析的表現を提案した。

シソーラス用語： *第二高調波発生 ,  *金 ,  *ナノ粒子 ,  微粒子 ,  *自己集合 ,  *単分子層 ,  *チオール ,  ガラス ,  基板 ,  ジスルフィド ,  浸漬 ,  時間 ,  *分子配向 ,  モンテカルロ法 ,  計算機シミュレーション ,  拡散律速反応 ,  *表面プラズモン ,  バイオセンサ ,  *比率 ,  テンソル
準シソーラス用語： *感受率

分類 (1件)： 固-液界面  (CB12050B)

タイトルに関連する用語 (6件)： 第二高調波発生 ,  プローブ ,  金 ,  ナノスフェア ,  自己集合単分子層 ,  形成過程